محققان چینی از اولین دستگاه لیتوگرافی پرتو الکترونی (EBL) تجاری این کشور به نام «Xizhi» رونمایی کردهاند. این دستگاه با دقتی خیره کننده که با پیشرفتهترین تجهیزات ASML رقابت میکند، گامی بزرگ برای خودکفایی چین در صنعت تراشه است، هرچند سرعت پایین، استفاده از آن برای تولید انبوه تراشه را با چالش جدی مواجه میکند.
به نظر میرسد جاهطلبیهای چین در صنعت نیمههادی با سرعت بیشتری در حال پیشرفت است. به گزارش South China Morning Post، یک شرکت چینی موفق به توسعه اولین دستگاه لیتوگرافی پرتو الکترونی (E-beam Lithography) برای استفاده تجاری شده است. دستاوردی که میتواند بخشی از موانع تحریمی را دور بزند.
تراشه سازان چینی به دلیل تحریمهای ایالات متحده، به دستگاههای لیتوگرافی پیشرفته EUV شرکت هلندی ASML دسترسی ندارند. این محدودیت، بزرگترین مانع بر سر راه تولید تراشههای پیشرفته در این کشور بوده است. با این حال، بر اساس گزارش اخیر SCMP، محققان دانشگاه ژجیانگ (Zhejiang University) در هانگژو، از دستگاهی به نام «شیجی» (Xizhi) رونمایی کردهاند که از فناوری پرتو الکترونی برای حکاکی روی ویفرهای سیلیکونی استفاده میکند.
دقت خیرهکننده در کنار محدودیت بزرگ
دستگاه «شیجی» اگرچه از نظر فناوری و سرعت تولید با ماشینهای High-NA EUV شرکت ASML فاصله زیادی دارد، اما در یک جنبه کلیدی شباهتهایی را به نمایش میگذارد. این دستگاه دقتی در حدود ۰.۶ نانومتر دارد که به شکل قابل توجهی به دقت تجهیزات پیشرفته ASML نزدیک است. با توجه به اینکه ابزارهای لیتوگرافی پرتوالکترونی (EBL) نیز تحت کنترلهای صادراتی آمریکا قرار دارند، این موفقیت داخلی یک پیروزی بزرگ برای صنعت تراشه چین محسوب میشود.
با این حال، به دلیل فرآیند حکاکی «نقطهبهنقطه» که از ویژگیهای ذاتی لیتوگرافی EBL است، تولید یک ویفر سیلیکونی با این دستگاه ممکن است چندین ساعت به طول انجامد. این سرعت پایین، استفاده از شیجی را برای تولید انبوه تراشهها عملاً غیرممکن میکند.
دستگاهی برای پر کردن شکاف تحقیق و توسعه
چین همچنان برای تولید انبوه تراشههای اصلی خود به دستگاههای قدیمیتر لیتوگرافی فرابنفش DUV متکی است. دستگاه جدید EBL میتواند به این کشور کمک کند تا شکاف خود در زمینه تحقیق و توسعه (R&D) با رقبای غربی را کاهش دهد. با استفاده از «شیجی»، شرکتهای چینی قادر خواهند بود نمونههای اولیه تراشههای بسیار پیشرفته را طراحی و تولید کنند، بدون آنکه نیازی به دسترسی به تجهیزات خارجی داشته باشند.
در همین رابطه بخوانید:
– خداحافظی با لیتوگرافی؟ چین از فناوری چاپ تراشه بدون نیاز به EUV رونمایی کرد
– پایان سلطه ASML؟ چین از سیستم لیتوگرافی EUV خود رونمایی کرد
اگرچه این روش برای تولید انبوه مناسب نیست، اما به چین اجازه میدهد تا در مرز دانش حرکت کرده و فناوریهای نسل بعدی خود را توسعه دهد. شکی نیست که چین هنوز سالها با قابلیتهای آمریکا و متحدانش در تولید تراشه فاصله دارد، اما اینگونه پیشرفتها نشان میدهد که این شکاف به تدریج در حال کمتر شدن است. باید دید که فناوری EBL چه نقشی در تحقق اهداف بلندمدت این کشور در صنعت نیمههادی ایفا خواهد کرد.
